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臺積電 2nm 工藝半導(dǎo)體曝光:每片晶圓 3 萬美元、初始良率約 60%,明年月產(chǎn)能將破 6 萬片

2025年8月19日 12:25  IT之家  作 者:故淵

8 月 19 日消息,韓媒 ddaily 昨日(8 月 18 日)發(fā)布博文,報(bào)道稱臺積電(TSMC)和三星電子正圍繞 2 納米工藝制程展開新一輪激烈競爭。

臺積電(TSMC)宣布其 2 納米制程晶圓將以每片 3 萬美元的固定高價(jià)供應(yīng),主攻 AI 與高性能計(jì)算(HPC)等高端客戶,強(qiáng)化“高端聯(lián)盟”策略。三星則憑借更低價(jià)格和快速供貨爭取市場,近期成功獲得價(jià)值 23 萬億韓元的特斯拉 AI 芯片訂單。

在發(fā)展策略方面,臺積電主要針對高端 AI 和高性能計(jì)算(HPC)市場,其最先進(jìn)的 2 納米制程晶圓價(jià)格定為每片 3 萬美元(IT之家注:現(xiàn)匯率約合 21.6 萬元人民幣),并對所有客戶實(shí)施統(tǒng)一高價(jià)政策,較當(dāng)前的 3 納米工藝售價(jià)高出約 50% 至 66%。

韓媒認(rèn)為臺積電借助技術(shù)和產(chǎn)能優(yōu)勢,推動(dòng)高端市場“高價(jià)聯(lián)盟”戰(zhàn)略,目標(biāo)客戶鎖定蘋果、英偉達(dá)、AMD 等 AI 和高性能計(jì)算領(lǐng)域的行業(yè)龍頭。

產(chǎn)能規(guī)劃方面,臺積電計(jì)劃在未來 34 個(gè)月內(nèi)完成試產(chǎn),2026 年實(shí)現(xiàn) 4 座工廠月產(chǎn)能達(dá) 6 萬片。初期 2 納米工藝良率約為 60%~65%,其中 SRAM 存儲單元良率更高,超過 90%。韓國媒體報(bào)道,臺積電 2 納米量產(chǎn)已無重大技術(shù)障礙,為后續(xù)大規(guī)模出貨打下堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

技術(shù)層面,2 納米工藝可在相同功耗下實(shí)現(xiàn) 10-15% 的性能提升,或在相同性能下將功耗降低 20-30%。這對于 AI 服務(wù)器、移動(dòng)終端等需兼顧算力和能效的產(chǎn)業(yè)極具吸引力。高良率與領(lǐng)先性能,讓臺積電 2 納米工藝在市場競爭中處于有利地位。

與此同時(shí),三星代工廠則以更低價(jià)格、加快供貨速度吸引客戶。目前三星 2 納米良率約為 40%,尚處于爬坡階段,三星通過提供更低的價(jià)格和更靈活的供貨,積極吸引新客戶。三星近期獲得特斯拉 AI6 芯片訂單,試圖通過價(jià)格和交付速度恢復(fù)其在代工領(lǐng)域的市場信心。

行業(yè)專家指出,2 納米時(shí)代的市場競爭將不再僅限于技術(shù)本身,還涉及價(jià)格、供貨速度及長期合作等多重因素,臺積電高價(jià)高質(zhì)策略強(qiáng)化了大客戶忠誠度,而三星則以高性價(jià)比爭取新客戶,雙方差異化競爭格局日益明顯。

編 輯:章芳
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